圖片展示
圖片展示

深圳市諾林電子科技有限公司

Shenzhen Nuolin Electronic Technology Co.,ltd

LED手動型曝光機的分類特性

作 者:諾林電子     關注:1549     發表時間:2017-09-11 18:56:00 來源:原創

LED手動型曝光機​是指通過開啟燈光發出UVA波長的紫外線,將膠片或其他透明體上的圖像信息轉移到塗有感光物質的表麵上的設備.

[ LED手動型曝光機 ]是指通過開啟燈光發出UVA波長的紫外線,將膠片或其他透明體上的圖像信息轉移到塗有感光物質的表麵上的設備.曝光機即電子束曝光機是集電子光學,電氣,機械,真空,計算機技術等於一體的複雜的半導體加工設備.廣泛應用於半導體,微電子,生物器件和納米科技領.


 

LED曝光機一般根據操作的簡便性分為三種,手動,半自動,全自動

 

A自動: 指的是從基板的上載下載,曝光時長和循環都是通過程序控製,自動光刻機主要是滿足工廠對於處理量的需要.

 

B手動:指的是對準的調節方式,是通過手調旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準,對準精度可想而知不高了;

 

C半自動:指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧;

[LED手動型曝光機]對光源係統的要求

a.有適當的波長.波長越短,可曝光的特征尺寸就越小;波長越短,就表示光刻的刀鋒越鋒利,刻蝕對於精度控製要求越高,因為衍射現象會更嚴重.

 

b.曝光能量必須均勻地分布在曝光區.一般采用光的均勻度或者叫不均勻度光的平行度等概念來衡量光是否均勻分布,常用的紫外光光源是高壓弧光燈(高壓汞燈),高壓汞燈有許多尖銳的光譜線,經過濾光後使用其中的g 線(436 nm)或i 線(365 nm).

 

c.有足夠的能量.能量越大,曝光時間就越短;


 

對於波長更短的深紫外光光源,可以使用準分子激光.例如KrF 準分子激光(248 nm),ArF 準分子激光(193 nm)和F2準分子激光(157 nm)等.

曝光係統的功能主要有:平滑衍射效應,實現均勻照明,濾光和冷光處理,實現強光照明和光強調節等.




 

[LED手動型曝光機]性能指標:

手動型曝光機的主要性能指標有:支持基片的尺寸範圍,分辨率,對準精度,曝光方式,光源波長,光強均勻性,生產效率等.


 

對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度.曝光方式分為接觸接近式,投影式和直寫式.

曝光光源波長分為紫外,深紫外和極紫外區域,光源有汞燈,準分子激光器等.


 

分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式.光刻的分辨率受受光源衍射的限製,所以與光源,光刻係統,光刻膠和工藝等各方麵的限製.





 

版權深圳市諾林電子科技有限公司 如涉及版權問題請及時聯係處理

環保節能型產品888真人网站,10KW雙麵曝光機,8KW雙麵曝光機,5KW風冷型曝光機,手動型幹膜壓膜機

歡迎訪問深圳市諾林電子科技有限公司( http://www.933wns.com/ )

 


圖片展示

公司名稱:深圳市諾林電子科技有限公司

手機:13316823280

電話:0755—61513569 

傳真:0755—23225589

郵箱:yazhen2001@163.com

公司地址:深圳市寶安區沙井萬豐中路234-1棟創輝工業園07號


企網簡介|發展曆程|企業資訊|加入企網|聯係企網

圖片展示
圖片展示

Copyright © 2017 深圳市諾林電子科技有限公司