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深圳市諾林電子科技有限公司

Shenzhen Nuolin Electronic Technology Co.,ltd

曝光機的分類介紹

作 者:諾林電子     關注:2111     發表時間:2017-09-13 15:41:57 來源:原創

深圳市諾林電子有限公司是一家專業生產曝光機的廠家,訂購熱線:0755-61513569

[ 曝光機 ]的優缺點:

缺點:光刻膠汙染掩膜板;掩膜板的磨損,容易損壞,壽命很低(隻能使用5~25次);容易累積缺陷;上個世紀七十年代的工業水準,已經逐漸被接近式曝光方式所淘汰了,國產光刻機均為接觸式曝光,國產光刻機的開發機構無法提供工藝要求更高的非接觸式曝光的產品化.

b.接近式曝光(Proximity Printing):掩膜板與光刻膠基底層保留一個微小的縫隙(Gap),Gap大約為0~200μm.可以有效避免與光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷,使掩膜和光刻膠基底能耐久使用;掩模壽命長(可提高10 倍以上),圖形缺陷少.接近式在現代光刻工藝中應用最為廣泛.

c.投影式曝光(Projection Printing):在掩膜板與光刻膠之間使用光學係統聚集光實現曝光.一般掩膜板的尺寸會以需要轉移圖形的4倍製作.優點:提高了分辨率;掩膜板的製作更加容易;掩膜板上的缺陷影響減小.

[曝光機]一般根據操作的簡便性分為三種,手動,半自動,全自動,光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光係統,光刻係統等.一般的光刻工藝要經曆矽片表麵清洗烘幹,塗底,旋塗光刻膠,軟烘,對準曝光,後烘,顯影,硬烘,刻蝕等工序.


光刻意思是用光來製作一個圖形(工藝),在矽片表麵勻膠,然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時複製到矽片上的過程.


[曝光機]的曝光分類:

a.接觸式曝光(Contact Printing):膜板直接與光刻膠層接觸.曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當,設備簡單.接觸式,根據施加力量的方式不同又分為:軟接觸,硬接觸和真空接觸.


1.軟接觸 就是把基片通過托盤吸附住(類似於勻膠機的基片放置方式),掩膜蓋在基片上麵;

2.硬接觸 是將基片通過一個氣壓(氮氣),往上頂,使之與掩膜接觸;

3.真空接觸 是在掩膜和基片中間抽氣,使之更加好的貼合(想一想把被子抽真空放置的方式)

<硬<真空 接觸的越緊密,分辨率越高,當然接觸的越緊密,掩膜和材料的損傷就越大.


 

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